P&E第一届“大美中国”华承为典藏艺术摄影展征稿启事

主办单位：中国国际照相机械影像器材与技术博览会组委会

大美摄影  华承为数码科技有限公司

承办单位：大美摄影  华承为典藏艺术

1.展览介绍：

与第二十届中国国际照相机械影像器材与技术博览会（以下简称“P&E”）同期开幕的P&E“大美中国”华承为典藏艺术摄影展是本届P&E的重要内容之一。展览以收藏级标准制作和呈现高水准的摄影创作，凸显影像的艺术表现力和感染力。同时，以其制作材料、工艺的艺术性和耐久保存性，赋予展览作品长期收藏的价值。“大美中国”华承为典藏艺术摄影展代表了国内影像输出和展览制作的高水准，是影像界高水准的艺术盛会之一。

第20届中国国际照相机械影像器材与技术博览会（China P&E）将于2017年4月21—24日在北京国家会议中心隆重举办，作为亚太地区及全球范围内，照相机械、影像设备全产业链有影响的品牌展会，本届展会将突出“影像无处不在”的主题，展品范围在原有照相机、镜头、器材、输出、打印设备的基础上融入手机影像、航拍摄影、运动摄影等新元素，充分展现影像行业发展的新思路、新境界，努力促进行业发展！

2.展览方式和作者权益：

本届展览以策展人约稿和自由投稿两种形式同步进行，经过专业评审委员会的评选，将展出60幅典藏摄影作品。全部展品由全国经过严格认证的专业影像工作室使用“华承为典藏艺术”、“铂金印相法”等高品质影像制作标准和方法进行作品的输出和展览制作，其中彩色作品和部分黑白作品采用收藏级数字艺术纸及“典藏艺术”喷墨打印输出，高品质黑白作品采用铂金印像法制作，全部采用铝合金典藏艺术相框装裱。每幅展品附作者简介（可标注作者联系方式）及作品描述。全部参展作品展后附精美包装归作者所有，如被有价收藏所得全部归作者。全部参展作品颁发参展证书。

3.征稿要求：

以“大美中国”为主题的人文（纪实）、地理（风光）摄影作品均可，暂不收创意性作品。手机、相机、胶片、数码拍摄均可，一律以数字文件提交。黑白、彩色不限，但不得混投。必须在提交影像数字文件的同时，提交相关包括姓名、性别、民族、出生年月、联系方式和使用手机、相机及题名、拍摄地点、拍摄数据等。实名投稿，每位作者限投8幅，不收组照。

投稿人应保证对提交作品拥有独立、完整的著作权，不得抄袭和剽窃，谢绝由电脑合成或改变原影像的作品，含有暴力、色情、宗教禁忌等法律所不允许的内容的作品。还应保证提交作品不侵犯第三人的著作权、肖像权、名誉权、隐私权等在内的任何权利。

投稿人违反征稿要求引发的相关纠纷由投稿人自行承担，对展会和主办方名誉及经济利益造成损失的，主办方保留向投稿人追究法律责任的权利。

主办方对入选参展的作品享有以宣传为目的的使用权,包括展览、出版、报道、发表等活动，不再另付报酬，作者享有署名权。

凡投稿者视为其同意本征稿启事的所有内容。

征稿邮箱：tg@hap-china.com

4.时间计划：

征稿时间：2017年即日起至3月12日

专家评审委员会评审：2017年3月13日-19日

入选作品制作：2017年3月20日-4月10日

展览时间：2017年4月21日至24日

5.展览相关信息：

展览地点：北京国家会议中心（第二十届中国国际照相机械影像器材与技术博览会现场）

咨询电话：18611556333（策展人）  010-66008117